足部按摩保健浴盆

专利权的终止

摘要

足部按摩保健浴盆，涉及有盆体和按摩凸起构成，盆体的横截面为梯形状，在盆体的内部的底面上均匀设置有按摩凸起，所说的按摩凸起的高度不同，在所说的足部按摩保健浴盆的盆底边缘部分的按摩凸起较低，盆底中央部分的按摩凸起较高。盆底边缘部分按摩凸起的高度为0.5厘米，在盆体底面中央的按摩凸起的高度高于四周的按摩凸起，盆体底面中央的按摩凸起的高度为1厘米，各按摩凸起之间的距离为1厘米，以便使脚部脚弓凹陷部分在浴洗过程中得到充分按摩。本实用新型所述的足部按摩保健浴盆，结构简单，使用方便，该保健浴盆能调整和维持人体内部平衡，改善血液循环及微循环，提高机体免疫功能，增强组织器官的新陈代谢，从而达到防病治病的目的。

基本信息

专利标题：

足部按摩保健浴盆

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN200820026423.0

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2008-07-26

授权号：

CN201239064Y

授权日：

2009-05-20

发明人：

韩长征

申请人：

韩长征

申请人地址：

272000山东省济宁市中区红星东路131号宏科利信专利代理事务所收转

代理机构：

济宁宏科利信专利代理事务所

代理人：

樊庆年

优先权：

CN200820026423.0

主分类号：

A47K3/022

IPC分类号：

A47K3/022 A61H7/00