高导电聚偏氟乙烯材料的准分子激光制备装置
专利权的终止
摘要

本实用新型是高导电聚偏氟乙烯材料的准分子激光制备装置,属于激光与物质相互作用领域。本装置包括沿光的传播方向依次设置的激光器、均束系统、第二会聚透镜和工作台;均束系统又包括第一级透镜阵列,第二级透镜阵列和第一会聚透镜。制备高导电聚偏氟乙烯材料时,先通过氦氖激光进行准直,调整光路,使其具有完整光斑形状;然后通过调节激光光斑大小和输出能量,控制材料表面能量流密度,使其为44mJ/cm2~112mJ/cm2;将样品置在工作台上,设置激光重复频率,开启激光进行材料辐照改性,辐照总脉冲个数结束后完成改性,同时激光停止输出。本实用新型使其表面电导率提高了9~12个数量级,同时制备出的导电聚合物比较稳定。

基本信息
专利标题 :
高导电聚偏氟乙烯材料的准分子激光制备装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200820110193.6
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2008-09-12
授权号 :
CN201272760Y
授权日 :
2009-07-15
发明人 :
蒋毅坚刘莹
申请人 :
北京工业大学
申请人地址 :
100124北京市朝阳区平乐园100号
代理机构 :
北京思海天达知识产权代理有限公司
代理人 :
张 慧
优先权 :
CN200820110193.6
主分类号 :
C08J3/28
IPC分类号 :
C08J3/28  C08L27/16  H01B1/00  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C08
有机高分子化合物;其制备或化学加工;以其为基料的组合物
C08J
加工;配料的一般工艺过程;不包括在C08B,C08C,C08F,C08G或C08H小类中的后处理
C08J3/00
高分子物质的处理或配料的工艺过程
C08J3/28
用波能或粒子辐射处理
法律状态
2014-10-29 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101588021625
IPC(主分类) : C08J 3/28
专利号 : ZL2008201101936
申请日 : 20080912
授权公告日 : 20090715
终止日期 : 20130912
2009-07-15 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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