硬膜,多层硬膜及它们的制造方法
专利权的终止
摘要

一种硬膜,其含有[(Nb1-d,Tad)aAl1-a](C1-xNx)、[(Nb1-d Tad)a,Al1-a-b-c,Sib,Bc](C1-xNx)、[(Cr,V)p(Nb,Ta)q(Al,Si,B)r](C1-xNx)或[(Ti,Cr,V)p(Nb,Ta)q(Al,Si,B)r](C1-xNx),其中原子比率满足以下条件:0.4≤a≤0.6,0<b+c≤0.15,0≤d≤1,0.4≤x≤1,前提条件是“b”和“c”中的一个可以是0,但是它们两个不同时为0,p+q+r=1;pTi+pCr+pV=p;qNb+qTa=q;rAl+rsi+rB=r,0.05≤q,0.5≤r≤0.73,0≤rsi+rB≤0.15,并且0.4≤x≤1.0,前提条件是当pTi大于0时,pCr、pV、rSi和rB的总和大于0。

基本信息
专利标题 :
硬膜,多层硬膜及它们的制造方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN101509121A
申请号 :
CN200910129726.4
公开(公告)日 :
2009-08-19
申请日 :
2006-02-16
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
山本兼司
申请人 :
株式会社神户制钢所
申请人地址 :
日本兵库县
代理机构 :
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 :
王 旭
优先权 :
CN200910129726.4
主分类号 :
C23C14/06
IPC分类号 :
C23C14/06  C23C14/22  C23C14/34  C23C14/54  B32B9/00  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/06
以镀层材料为特征的
法律状态
2022-01-28 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : C23C 14/06
申请日 : 20060216
授权公告日 : 20111019
终止日期 : 20210216
2011-10-19 :
授权
2009-10-14 :
实质审查的生效
2009-08-19 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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