硬膜,多层硬膜及它们的制造方法
专利权的终止
摘要
一种硬膜，其含有[(Nb1-d，Tad)aAl1-a](C1-xNx)、[(Nb1-d Tad)a，Al1-a-b-c，Sib，Bc](C1-xNx)、[(Cr，V)p(Nb，Ta)q(Al，Si，B)r](C1-xNx)或[(Ti，Cr，V)p(Nb，Ta)q(Al，Si，B)r](C1-xNx)，其中原子比率满足以下条件：0.4≤a≤0.6，0＜b+c≤0.15，0≤d≤1，0.4≤x≤1，前提条件是“b”和“c”中的一个可以是0，但是它们两个不同时为0，p+q+r＝1；pTi+pCr+pV＝p；qNb+qTa＝q；rAl+rsi+rB＝r，0.05≤q，0.5≤r≤0.73，0≤rsi+rB≤0.15，并且0.4≤x≤1.0，前提条件是当pTi大于0时，pCr、pV、rSi和rB的总和大于0。
基本信息
专利标题 ：
硬膜,多层硬膜及它们的制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101509121A
申请号 ：
CN200910129726.4
公开（公告）日 ：
2009-08-19
申请日 ：
2006-02-16
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
山本兼司
申请人 ：
株式会社神户制钢所
申请人地址 ：
日本兵库县
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
王 旭
优先权 ：
CN200910129726.4
主分类号 ：
C23C14/06
IPC分类号 ：
C23C14/06 C23C14/22 C23C14/34 C23C14/54 B32B9/00
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/06
以镀层材料为特征的
法律状态
2022-01-28 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : C23C 14/06
申请日 : 20060216
授权公告日 : 20111019
终止日期 : 20210216
申请日 : 20060216
授权公告日 : 20111019
终止日期 : 20210216
2011-10-19 ：
授权
2009-10-14 ：
实质审查的生效
2009-08-19 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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