抗反射材料、光学元件、显示器件及压模的制造方法和使用了压...
授权
摘要
本发明的抗反射材料是在基板的表面上在x方向和y方向形成其周期比入射光的最短波长小的凹凸图形的抗反射材料，当假定入射光的最短波长为λmin、入射光的最大入射角为θimax、入射介质的折射率为ni、凹凸图形中的x方向的周期为Λx以及y方向的周期为Λy时，满足下式(1)，[数学式1]Λx，y/λmin＜1/(ni+ni·sinθimax) …(1)由此，能够在宽的波段内抑制短波长光成分的衍射光的发生。
基本信息
专利标题 ：
抗反射材料、光学元件、显示器件及压模的制造方法和使用了压模的抗反射材料的制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101566699A
申请号 ：
CN200910138082.5
公开（公告）日 ：
2009-10-28
申请日 ：
2005-12-01
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
田口登喜生植木俊中村浩三津田和彦
申请人 ：
夏普株式会社
申请人地址 ：
日本大阪府大阪市
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
刘宗杰
优先权 ：
CN200910138082.5
主分类号 ：
G02B1/11
IPC分类号 ：
G02B1/11 C25D11/04 C23F1/02
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B1/00
按制造材料区分的光学元件；用于光学元件的光学涂层
G02B1/10
对光学元件表面涂覆或对它进行表面处理后所产生的光学涂层
G02B1/11
抗反射涂层
法律状态
2015-12-16 ：
授权
2009-12-23 ：
实质审查的生效
2009-10-28 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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