用于探测微粒辐射的方法
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摘要
本发明公开用于探测微粒辐射的方法。当用像素化探测器探测微粒辐射诸如电子时,电子/空穴对的云被形成于探测器中。使用由该电子/空穴对的云导致的信号,估计撞击的位置。发明人发现,当云的尺寸与像素尺寸相当或比像素尺寸小得多时,估计的位置示出对像素的中心和角落、以及对边界的中间的强偏置。这阻碍形成具有超分辨率的图像。通过移动位置或通过将电子归于数个亚像素,这种偏置可以被抵消,造成更真实的表示。发明人还发现,通过扩展图像,图像中的Moire效应和干涉可以被抵消。只要图像是稀疏图像(几乎所有像素表示一个撞击或没有撞击),这种扩展就是可逆的过程。在扩展(有效地,空间低通滤波)之后,高通滤波可以用于对图像匀边。
基本信息
专利标题 :
用于探测微粒辐射的方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN106680860A
申请号 :
CN201611271117.9
公开(公告)日 :
2017-05-17
申请日 :
2016-11-11
授权号 :
CN106680860B
授权日 :
2022-05-17
发明人 :
B·J·詹斯森E·M·弗兰肯M·库伊珀L·于
申请人 :
FEI公司
申请人地址 :
美国俄勒冈州
代理机构 :
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 :
申屠伟进
优先权 :
CN201611271117.9
主分类号 :
G01T1/29
IPC分类号 :
G01T1/29
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01T
核辐射或X射线辐射的测量
G01T1/175
电源电路
G01T1/29
对辐射束流的测量,例如,测量射束位置或截面;辐射的空间分布的测量
法律状态
2022-05-17 :
授权
2018-12-07 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01T 1/29
申请日 : 20161111
申请日 : 20161111
2017-05-17 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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