用于使用焦点敏感叠盖目标进行焦点确定的系统及方法
授权
摘要
本发明揭示一种光刻掩模。所述光刻掩模包含至少一个不对称经分段图案元素。特定不对称经分段图案元素包含至少两个分段，其中连续分段之间的分离距离比用于在样本上产生所述特定不对称经分段图案元素的图像的一组投射光学器件的分辨率小，使得所述特定不对称经分段图案元素的所述图像为未经分段图案图像。所述未经分段图案图像在所述样本上的位置指示所述样本沿着所述组投射光学器件的光轴的位置。
基本信息
专利标题 ：
用于使用焦点敏感叠盖目标进行焦点确定的系统及方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN107949807A
申请号 ：
CN201680026716.6
公开（公告）日 ：
2018-04-20
申请日 ：
2016-05-13
授权号 ：
CN107949807B
授权日 ：
2022-06-03
发明人 ：
W·米厄尔
申请人 ：
科磊股份有限公司
申请人地址 ：
美国加利福尼亚州
代理机构 ：
北京律盟知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
张世俊
优先权 ：
CN201680026716.6
主分类号 ：
G03F1/44
IPC分类号 ：
G03F1/44 G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1/00
用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1/38
具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
G03F1/44
测试或测量特征，例如网格图案、焦点监控、锯齿尺寸或缺口尺寸
法律状态
2022-06-03 ：
授权
2018-05-18 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 1/44
申请日 : 20160513
申请日 : 20160513
2018-04-20 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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