用于制造包含双（甲硅烷基）氨基的硅烷化合物的方法
授权
摘要
本发明涉及用于制造包含双(甲硅烷基)氨基的硅烷化合物的方法。提供一种制造包含双(甲硅烷基)氨基的硅烷化合物的方法。提供一种用于制造以下通式(3)的包含双(甲硅烷基)氨基的硅烷化合物的方法，使以下通式(1)的化合物和以下通式(2)的化合物在铂化合物的存在下反应，其中所使用的通式(1)的化合物具有至多5.0重量％的通式(4)的化合物的含量：R1是具有1至18个碳原子的二价烃基，R2至R7各自是具有1至20个碳原子的一价烃基；HSiR8nX3‑n (2)，R8是具有1至20个碳原子的一价烃基，字母X是卤素原子，字母n是0至2的整数；
R1'是具有3至20个碳原子的二价烃基，R2至R8、字母X和n是与上述相同的含义；以及
基本信息
专利标题 ：
用于制造包含双（甲硅烷基）氨基的硅烷化合物的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN108017663A
申请号 ：
CN201711025796.6
公开（公告）日 ：
2018-05-11
申请日 ：
2017-10-27
授权号 ：
CN108017663B
授权日 ：
2022-05-13
发明人 ：
殿村洋一久保田透
申请人 ：
信越化学工业株式会社
申请人地址 ：
日本东京
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人 ：
李英
优先权 ：
CN201711025796.6
主分类号 ：
C07F7/18
IPC分类号 ：
C07F7/18
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C07
有机化学
C07F
含除碳、氢、卤素、氧、氮、硫、硒或碲以外的其他元素的无环，碳环或杂环化合物
C07F7/00
含周期表第4或14族元素的化合物
C07F7/02
硅化合物
C07F7/08
具有1个或更多的C-Si键的化合物
C07F7/18
具有1个或更多的C-Si键以及1个或更多的C-O-Si键的化合物
法律状态
2022-05-13 ：
授权
2019-09-13 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C07F 7/18
申请日 : 20171027
申请日 : 20171027
2018-05-11 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN108017663A.PDF
PDF下载
