含氮环状化合物及其制造方法
授权
摘要
本发明的课题是提供新的甘脲类及其制造方法。解决手段是下述式(1)所示的含氮环状化合物，该式(1)所示的含氮环状化合物例如由下述式(1A)或式(1B)表示。(式中，R1、R2、R3和R4之中的任意2个表示缩水甘油基，其余2个表示甲氧基甲基。)
基本信息
专利标题 ：
含氮环状化合物及其制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN110023317A
申请号 ：
CN201780073389.4
公开（公告）日 ：
2019-07-16
申请日 ：
2017-12-08
授权号 ：
CN110023317B
授权日 ：
2022-05-10
发明人 ：
远藤雅久孙军
申请人 ：
日产化学株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京市中咨律师事务所
代理人 ：
曾祯
优先权 ：
CN201780073389.4
主分类号 ：
C07D487/04
IPC分类号 ：
C07D487/04 C08G59/02
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C07
有机化学
C07D
杂环化合物
C07D487/00
在稠环系中含有氮原子作为仅有的杂环原子的杂环化合物，不包含在C07D451/00至C07D477/00组中
C07D487/02
在稠合系中含有两个杂环
C07D487/04
邻位稠合系
法律状态
2022-05-10 ：
授权
2019-12-27 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C07D 487/04
申请日 : 20171208
申请日 : 20171208
2019-07-16 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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