涂布控制装置、涂布控制方法、程序以及记录介质
授权
摘要
本发明的一实施方式所涉及的涂布控制装置包括：获取部，所述获取部获取肌肤的图像数据；分割部，所述分割部将图像数据分割成200μm以下的多个区段；以及计算部，所述计算部根据图像数据的单一或多个区段的值而计算涂布于肌肤的各部分的化妆料的涂布量。
基本信息
专利标题 ：
涂布控制装置、涂布控制方法、程序以及记录介质
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN110177486A
申请号 ：
CN201780083270.5
公开（公告）日 ：
2019-08-27
申请日 ：
2017-12-18
授权号 ：
CN110177486B
授权日 ：
2022-04-08
发明人 ：
胜山智祐
申请人 ：
株式会社资生堂
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京三友知识产权代理有限公司
代理人 ：
韩香花
优先权 ：
CN201780083270.5
主分类号 ：
A45D44/00
IPC分类号 ：
A45D44/00
IPC结构图谱
A
A部——人类生活必需
A45
手携物品或旅行品
A45D
理发或修面设备；；化妆或者化妆处理的设备，如用于修指甲或修脚趾甲
A45D44/00
其他梳妆或个人护理设备，如理发室用的
法律状态
2022-04-08 ：
授权
2019-12-20 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : A45D 44/00
申请日 : 20171218
申请日 : 20171218
2019-08-27 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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