用于激光标记基底的系统和方法

授权

摘要

一种激光标记系统包括至少一个控制器，用于在激光源和扫描头之间控制光学设备的阵列。所述阵列将激光射束的所接收的空间剖面的部分的所选图案应用到基底，用于在预定的时间间隔内以相对于基底中热扩散速率的功率沉积速率来实现激光射束的与第一强度不同的第二强度，以利用所述部分的所选图案对基底位置进行热学加热。所述第二强度实现基底材料的碳化，以产生标记而无烧蚀。

基本信息

专利标题：

用于激光标记基底的系统和方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN110225829A

申请号：

CN201780085504.X

公开（公告）日：

2019-09-10

申请日：

2017-12-01

授权号：

CN110225829B

授权日：

2022-05-17

发明人：

P.J.屈肯达尔D.J.赖安

申请人：

录象射流技术公司

申请人地址：

美国伊利诺伊州

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司

代理人：

张凌苗

优先权：

CN201780085504.X

主分类号：

B41M5/26

IPC分类号：

B41M5/26 B41J2/435 B41J2/44 B41J2/47