极紫外光光罩容器
授权
摘要
本发明公开了一种光罩容器,用于容设极紫外光光罩。光罩容器包括外盒总成及内盒总成,外盒总成用以容置内盒总成。内盒总成包括基座以及上盖。基座具有上表面及周缘,上表面设有多个定位件以界定出光罩承载位置。周缘连接并且围绕上表面。上表面包括承载面、沟槽及第一接面。光罩设置于光罩承载位置,以承载在承载面上。沟槽具连续环状结构,底部低于承载面。承载面、沟槽及第一接面依序由上表面内侧朝周缘配置。上盖具有凹腔及第二接面。凹腔用于容纳光罩,第二接面与第一接面配合以形成密封状态。基座上利用连续环状结构的沟槽来捕获或容置微粒,降低微粒移动到承载面与光罩间的机会,减缓光罩被微粒污染的问题。
基本信息
专利标题 :
极紫外光光罩容器
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN108375872A
申请号 :
CN201810075239.3
公开(公告)日 :
2018-08-07
申请日 :
2018-01-25
授权号 :
CN108375872B
授权日 :
2022-04-15
发明人 :
薛新民莊家和李承儒黄政杰
申请人 :
家登精密工业股份有限公司
申请人地址 :
中国台湾新北市土城区中央路4段2号9楼之5
代理机构 :
深圳市智享知识产权代理有限公司
代理人 :
马静
优先权 :
CN201810075239.3
主分类号 :
G03F1/66
IPC分类号 :
G03F1/66
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1/00
用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1/66
专门适用于掩膜,空白掩膜或薄膜的容器;其制备
法律状态
2022-04-15 :
授权
2019-03-05 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 1/66
申请日 : 20180125
申请日 : 20180125
2018-08-07 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载