轨迹间的局部光顺过渡方法、设备及存储介质
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摘要
本发明提供了一种轨迹间的局部光顺过渡方法设备及存储介质,所述轨迹包括第一轨迹和第二轨迹,且所述第一轨迹与所述第二轨迹相交于衔接点;所述方法包括:获取第一轨迹上的第一过渡点,并以所述第一过渡点与所述衔接点为端点构建第一直线轨迹;获取第二轨迹上的第二过渡点,并以所述第二过渡点与所述衔接点为端点构建第二直线轨迹;对所述第一直线轨迹和第二直线轨迹进行局部光顺过渡并生成过渡曲线,并将所述过渡曲线作为第一轨迹与第二轨迹的过渡轨迹。本发明可以实现对任意轨迹间的衔接进行高效、精确的光顺过渡,使控制系统能平滑的控制末端执行器,不会出现进给方向的突变,使运动过程更加平滑。
基本信息
专利标题 :
轨迹间的局部光顺过渡方法、设备及存储介质
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN108829031A
申请号 :
CN201810716469.3
公开(公告)日 :
2018-11-16
申请日 :
2018-06-29
授权号 :
CN108829031B
授权日 :
2022-04-29
发明人 :
刘焕王昕柏子平
申请人 :
深圳市汇川技术股份有限公司
申请人地址 :
广东省深圳市宝安区宝城70区留仙二路鸿威工业区E栋
代理机构 :
深圳市顺天达专利商标代理有限公司
代理人 :
陆军
优先权 :
CN201810716469.3
主分类号 :
G05B19/19
IPC分类号 :
G05B19/19
IPC结构图谱
G
G部——物理
G05
控制;调节
G05B
一般的控制或调节系统;这种系统的功能单元;用于这种系统或单元的监视或测试装置
G05B19/00
程序控制系统
G05B19/02
电的
G05B19/18
数字控制,即在特殊机床中的自动操作机器,例如在1个制造设施中通过以数字形式的程序数据来执行定位、移动或协调操作
G05B19/19
以定位或轮廓控制系统为特征的,例如控制从1个程序点到另1个的位置或控制沿1个程序的连续路径的移动
法律状态
2022-04-29 :
授权
2018-12-11 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G05B 19/19
申请日 : 20180629
申请日 : 20180629
2018-11-16 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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