微小线段的轨迹光顺方法、介质及机床数控设备
实质审查的生效
摘要
本发明提供一种微小线段的轨迹光顺方法、介质及机床数控设备,所述微小线段的轨迹光顺方法包括获取工件加工轨迹上的数据点,对所述数据点进行连续微段识别,以确定适合进行曲线拟合的数据点,并将其构成的轨迹作为连续微段;对所述连续微段进行预处理,以通过轨迹坏点的处理对所述连续微段进行优化;对优化后的连续微段进行样条拟合,获得B样条轨迹,并对相邻的两条所述B样条轨迹进行插值处理,以通过所述B样条轨迹对所述微小线段进行平滑处理。本发明提供了一种将微小线段拟合成三次B样条曲线的算法,拟合后的B样条轨迹比原微小线段组成的轨迹更加平滑,从而提高工件表面的加工质量,使速度平滑,加速度连续,提高工件加工效率。
基本信息
专利标题 :
微小线段的轨迹光顺方法、介质及机床数控设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114488941A
申请号 :
CN202011254697.7
公开(公告)日 :
2022-05-13
申请日 :
2020-11-11
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
朱志浩朱蓓赵建华黄云鹰曾鹏邱明勇
申请人 :
沈机(上海)智能系统研发设计有限公司
申请人地址 :
上海市杨浦区翔殷路128号11号楼A座209-07室
代理机构 :
上海光华专利事务所(普通合伙)
代理人 :
徐秋平
优先权 :
CN202011254697.7
主分类号 :
G05B19/19
IPC分类号 :
G05B19/19 G05B19/41
IPC结构图谱
G
G部——物理
G05
控制;调节
G05B
一般的控制或调节系统;这种系统的功能单元;用于这种系统或单元的监视或测试装置
G05B19/00
程序控制系统
G05B19/02
电的
G05B19/18
数字控制,即在特殊机床中的自动操作机器,例如在1个制造设施中通过以数字形式的程序数据来执行定位、移动或协调操作
G05B19/19
以定位或轮廓控制系统为特征的,例如控制从1个程序点到另1个的位置或控制沿1个程序的连续路径的移动
法律状态
2022-05-31 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G05B 19/19
申请日 : 20201111
申请日 : 20201111
2022-05-13 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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