关键尺寸测量系统和使用其测量关键尺寸的方法
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摘要
一种关键尺寸测量系统，包括电压测量单元、控制单元和关键尺寸测量单元。电压测量单元可以测量光掩模的掩模图案的电势。控制单元可以包括信息存储单元，该信息存储单元用于存储关于由电压测量单元测量的掩模图案的电势的分布信息，以及关于与光掩模的掩模图案相对应的布局图案的信息。关键尺寸测量单元可由控制单元以第一测量模式和比第一测量模式运行更短时间的第二测量模式操作，并测量掩模图案的关键尺寸。
基本信息
专利标题 ：
关键尺寸测量系统和使用其测量关键尺寸的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN109540050A
申请号 ：
CN201811117478.7
公开（公告）日 ：
2019-03-29
申请日 ：
2018-09-20
授权号 ：
CN109540050B
授权日 ：
2022-05-24
发明人 ：
朴爰柱李亨周崔硕桓南东锡韩允泽
申请人 ：
三星电子株式会社
申请人地址 ：
韩国京畿道
代理机构 ：
北京市柳沈律师事务所
代理人 ：
邵亚丽
优先权 ：
CN201811117478.7
主分类号 ：
G01B15/00
IPC分类号 ：
G01B15/00 H01L21/66
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01B
长度、厚度或类似线性尺寸的计量；角度的计量；面积的计量；不规则的表面或轮廓的计量
G01B15/00
以采用波或粒子辐射为特征的计量设备
法律状态
2022-05-24 ：
授权
2020-09-01 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01B 15/00
申请日 : 20180920
申请日 : 20180920
2019-03-29 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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