周期极化反转结构的制造方法
授权
摘要
减小相邻的周期极化反转结构的间隔，并且同时防止电极片部间的绝缘击穿、提高周期极化反转结构的生产率。在强介电性晶体基板(1)的第一主面(1a)上设置由多个电极片部构成的第一电极片部排列体(2A)。通过对第一电极片部排列体(2A)施加电压而形成第一周期极化反转结构(5A)。在相邻的多个所述第一周期极化反转结构(5A)之间设置由多个电极片部(3)构成的第二电极片部排列体(2B)。通过对第二电极片部排列体(2B)施加电压而形成第二周期极化反转结构(5B)。
基本信息
专利标题 ：
周期极化反转结构的制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111226167A
申请号 ：
CN201880003453.6
公开（公告）日 ：
2020-06-02
申请日 ：
2018-08-30
授权号 ：
CN111226167B
授权日 ：
2022-04-22
发明人 ：
服部良祐山口省一郎下方英嗣
申请人 ：
日本碍子株式会社
申请人地址 ：
日本国爱知县
代理机构 ：
北京旭知行专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
王轶
优先权 ：
CN201880003453.6
主分类号 ：
G02F1/37
IPC分类号 ：
G02F1/37
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器
G02F1/19
•• G02F1/015至G02F1/167不包括的基于可变的反射或折射元件的
G02F1/35
非线性光学
G02F1/37
用于二次谐波产生的
法律状态
2022-04-22 ：
授权
2020-06-26 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02F 1/37
申请日 : 20180830
申请日 : 20180830
2020-06-02 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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