周期分极反转结构的制造方法
发明专利申请公布后的驳回
摘要

本发明提供一种变换效率高、制造成品率提高的周期分极反转结构的制造方法。所述方法用于在单畴化的二次非线性光学结晶(31)中制造周期分极反转结构,包括以下工序:在二次非线性光学结晶(31)的-Z面形成与分极反转周期一致的抗蚀图形(32);以及将制造有抗蚀图形(32)的-Z面作为负电压、+Z面作为正电压来施加电压以在二次非线性光学结晶(31)中形成电场,其中,二次非线性光学结晶(31)含有弥补结晶缺陷的至少一种元素作为添加物。

基本信息
专利标题 :
周期分极反转结构的制造方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN101091136A
申请号 :
CN200680001609.4
公开(公告)日 :
2007-12-19
申请日 :
2006-03-17
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
铃木博之遊部雅生梅木毅伺西田好毅忠永修柳川勉曲克明马渡宏泰宫泽弘汤本润司
申请人 :
日本电信电话株式会社;NTT电子股份有限公司
申请人地址 :
日本东京
代理机构 :
北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司
代理人 :
余朦
优先权 :
CN200680001609.4
主分类号 :
G02F1/37
IPC分类号 :
G02F1/37  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如转换、选通、调制或解调,上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的;用于上述操作的技术或工艺;变频;非线性光学;光学逻辑元件;光学模拟/数字转换器
G02F1/19
•• G02F1/015至G02F1/167不包括的基于可变的反射或折射元件的
G02F1/35
非线性光学
G02F1/37
用于二次谐波产生的
法律状态
2010-09-01 :
发明专利申请公布后的驳回
号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101007187413
IPC(主分类) : G02F 1/37
专利申请号 : 2006800016094
公开日 : 20071219
2008-02-13 :
实质审查的生效
2007-12-19 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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