像素结构及其制造方法
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要

本发明提供一种像素结构及其制造方法,所述结构包括一基板、一薄膜晶体管、一电容器、一保护层与一像素电极。其中,基板具有一主动元件区与一电容区,且在电容区中已形成有多个开口。此外,薄膜晶体管配置于主动元件区中,而电容器配置于电容区中并共形地形成于开口内。另外,保护层覆盖薄膜晶体管与电容器,而像素电极配置于保护层上,且像素电极会与薄膜晶体管以及电容器电连接。本发明可以在不影响电容器的电容值之前提下缩小电容器于基板上所占的面积,进而提升显示区域的开口率。

基本信息
专利标题 :
像素结构及其制造方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1743933A
申请号 :
CN200510105758.2
公开(公告)日 :
2006-03-08
申请日 :
2005-09-27
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
丁进国
申请人 :
广辉电子股份有限公司
申请人地址 :
台湾省桃园县
代理机构 :
北京三友知识产权代理有限公司
代理人 :
任默闻
优先权 :
CN200510105758.2
主分类号 :
G02F1/1362
IPC分类号 :
G02F1/1362  G02F1/1343  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如转换、选通、调制或解调,上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的;用于上述操作的技术或工艺;变频;非线性光学;光学逻辑元件;光学模拟/数字转换器
G02F1/00
控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如,转换、选通或调制;非线性光学
G02F1/01
对强度、相位、偏振或颜色的控制
G02F1/13
基于液晶的,例如单位液晶显示单元
G02F1/133
构造上的设备;液晶单元的工作;电路装置
G02F1/136
结构上与一半导体层或基片相结合的液晶单元,例如形成集成电路部分的液晶单元
G02F1/1362
有源矩阵寻址单元
法律状态
2009-06-17 :
发明专利申请公布后的视为撤回
2007-12-26 :
专利申请权、专利权的转移专利申请权的转移
变更事项 : 申请人
变更前权利人 : 广辉电子股份有限公司
变更后权利人 : 友达光电股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 台湾省桃园县
变更后权利人 : 台湾省新竹市
登记生效日 : 20071123
2006-05-03 :
实质审查的生效
2006-03-08 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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