用于落射荧光收集的图案化的光学器件
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摘要

本公开涉及用于落射荧光收集的系统和方法。示例系统包括光学元件、一个或多个光源,以及图像传感器。光学元件包括至少一个高反射率(HR)涂层部分和至少一个抗反射(AR)涂层部分。(多个)光源沿着第一光轴光学地耦合到光学元件。一个或多个光源发射激发光,所述激发光经由光学元件与样品相互作用。样品包括荧光团,其响应于激发光发射发射光。图像传感器沿着第二光轴光学地耦合到光学元件。图像传感器经由光学元件检测发射光。

基本信息
专利标题 :
用于落射荧光收集的图案化的光学器件
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN110494738A
申请号 :
CN201880023769.1
公开(公告)日 :
2019-11-22
申请日 :
2018-04-04
授权号 :
CN110494738B
授权日 :
2022-04-19
发明人 :
S.辛哈
申请人 :
威里利生命科学有限责任公司
申请人地址 :
美国加利福尼亚州
代理机构 :
北京市柳沈律师事务所
代理人 :
王冉
优先权 :
CN201880023769.1
主分类号 :
G01N21/64
IPC分类号 :
G01N21/64  G02B21/00  G01J3/02  G01N21/88  
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IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段,即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/62
所测试的材料在其中被激发,因之引起材料发光或入射光的波长发生变化的系统
G01N21/63
光学激发的
G01N21/64
荧光;磷光
法律状态
2022-04-19 :
授权
2019-12-17 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01N 21/64
申请日 : 20180404
2019-11-22 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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