确定周期性结构的边缘粗糙度参数
授权
摘要
在一种确定周期性结构的边缘粗糙度参数的方法中，在检测设备中该周期性结构被照射(602)。照射辐射束可包括具有在1纳米至100纳米的范围内的波长的辐射。从辐射束获得散射信号(604)，该辐射束从该周期性结构散射。该散射信号包括散射强度信号，其通过检测该检测设备中的远场衍射图案的图像而获得。基于围绕非镜面衍射阶的该散射强度信号的分布来确定(606)边缘粗糙度参数，诸如线边缘粗糙度和/或线宽粗糙度。该确定可例如使用峰加宽模型来完成。
基本信息
专利标题 ：
确定周期性结构的边缘粗糙度参数
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN110832401A
申请号 ：
CN201880044452.6
公开（公告）日 ：
2020-02-21
申请日 ：
2018-06-21
授权号 ：
CN110832401B
授权日 ：
2022-05-27
发明人 ：
T·J·克嫩S·B·罗博尔S·J·比杰尔斯马
申请人 ：
ASML荷兰有限公司
申请人地址 ：
荷兰维德霍温
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
胡良均
优先权 ：
CN201880044452.6
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-05-27 ：
授权
2020-03-17 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20180621
申请日 : 20180621
2020-02-21 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
