基准电压产生装置
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摘要

本发明提供基准电压产生装置,抑制了相对于温度变动的基准电压的变动。基准电压产生装置具有:恒定电流电路,其包含具有第一沟道尺寸的第一MOS晶体管,该第一MOS晶体管具有第一导电型的栅电极、源区、漏区和第一沟道杂质区;以及电压生成电路,其包含具有与第一沟道尺寸不同的第二沟道尺寸的第二MOS晶体管,该第二MOS晶体管具有第二导电型的栅电极、与第一导电型的源区、漏区和与第一沟道杂质区不同的杂质浓度的第二沟道杂质区。

基本信息
专利标题 :
基准电压产生装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN110119178A
申请号 :
CN201910003748.X
公开(公告)日 :
2019-08-13
申请日 :
2019-01-03
授权号 :
CN110119178B
授权日 :
2022-05-03
发明人 :
吉野英生
申请人 :
艾普凌科有限公司
申请人地址 :
日本千叶县
代理机构 :
北京三友知识产权代理有限公司
代理人 :
邓毅
优先权 :
CN201910003748.X
主分类号 :
G05F3/26
IPC分类号 :
G05F3/26  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G05
控制;调节
G05F
调节电变量或磁变量的系统
G05F3/00
应用具有自调节性能的非控制元件或非控制元件的组合来调节电变量的非回授系统
G05F3/02
调节电压或电流的
G05F3/08
其中变量是直流的
G05F3/10
利用具有非线性特性的非控制器件
G05F3/16
非控制器件是半导体器件
G05F3/20
应用了二极管与三极管的组合
G05F3/26
电流反射镜
法律状态
2022-05-03 :
授权
2020-12-01 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G05F 3/26
申请日 : 20190103
2019-08-13 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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