电磁波屏蔽体形成用遮蔽带
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摘要

提供电磁波屏蔽体形成用遮蔽带,其为电磁波屏蔽体形成时所用的遮蔽带,对凹凸的追随性优异、并且可从凹凸面无残胶地剥离。本发明的电磁波屏蔽体形成用遮蔽带具备弹性模量通过活性能量射线照射而成为活性能量射线照射前的20倍以上的粘合剂层,该粘合剂层的活性能量射线照射后的弹性模量为500MPa以下。

基本信息
专利标题 :
电磁波屏蔽体形成用遮蔽带
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN110055005A
申请号 :
CN201910046967.6
公开(公告)日 :
2019-07-26
申请日 :
2019-01-18
授权号 :
CN110055005B
授权日 :
2022-06-03
发明人 :
大川雄士
申请人 :
日东电工株式会社
申请人地址 :
日本大阪府
代理机构 :
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
刘新宇
优先权 :
CN201910046967.6
主分类号 :
C09J7/25
IPC分类号 :
C09J7/25  C09J7/30  C09J7/50  C09J175/14  C08F220/18  C08F220/20  C08F220/06  C08F2/48  C08G18/81  C08G18/62  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C09
染料;涂料;抛光剂;天然树脂;黏合剂;其他类目不包含的组合物;其他类目不包含的材料的应用
C09J
黏合剂;一般非机械方面的黏合方法;其他类目不包括的黏合方法;黏合剂材料的应用
C09J7/00
薄膜或薄片状的粘合剂
C09J7/20
以它们的载体为特征
C09J7/22
塑料,镀金属塑料
C09J7/25
基于由碳-碳不饱和键以外的反应得到的高分子化合物
法律状态
2022-06-03 :
授权
2020-10-30 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C09J 7/25
申请日 : 20190118
2019-07-26 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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