用于反射式显示面板的阵列基板及其制备方法和显示面板
授权
摘要
本发明提供了用于反射式显示面板的阵列基板及其制备方法和显示面板，该阵列基板包括基板和设置在基板上的像素电极和出光结构，出光结构用于反射预定波长的光，并透射其它波长的光。该阵列基板中出光结构仅反射预定波长的光，由此可以根据需要将入射的环境光转换为目标颜色的光，从而实现彩色显示，且应用于显示面板时不需要设置彩膜层，大大提高了光的利用率和反射率，改善了反射式液晶显示面板的显示效果。
基本信息
专利标题 ：
用于反射式显示面板的阵列基板及其制备方法和显示面板
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN109613747A
申请号 ：
CN201910117578.8
公开（公告）日 ：
2019-04-12
申请日 ：
2019-02-15
授权号 ：
CN109613747B
授权日 ：
2022-04-29
发明人 ：
杨光磊方志祥
申请人 ：
合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
申请人地址 ：
安徽省合肥市铜陵北路2177号
代理机构 ：
北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
赵天月
优先权 ：
CN201910117578.8
主分类号 ：
G02F1/1335
IPC分类号 ：
G02F1/1335 G02F1/1343 G02F1/13357
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器
G02F1/1335
•••••与液晶单元结构相连的光学装置，例如偏振器或反射器
法律状态
2022-04-29 ：
授权
2019-05-07 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02F 1/1335
申请日 : 20190215
申请日 : 20190215
2019-04-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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