显示基板及其制备方法、显示面板、显示设备
实质审查的生效
摘要

本申请提供了一种显示基板及其制备方法、显示面板、显示设备,其中显示基板包括与屏下摄像装置对应的第一区域和位于第一区域周边的第二区域,第二区域包括基底、第一源漏极层、第一平坦层、透明电极层和光刻胶层。本申请通过电极层凹槽结构处的光刻胶层的第一光刻胶结构的厚度增加,保证第一光刻胶结构的厚度、大于被金属结构反射的光线穿透光刻胶的厚度,因第一光刻胶结构的厚度较厚,不会被反射光线射透,在后续的显影工艺之后会保留下来,保留下来的第一光刻胶结构在透明电极层的刻蚀过程中发挥掩膜结构的作用,可以保护被保留的第一光刻胶结构下方的透明电极层,从而可以保证透明电极走线的完整性和均一性,延长透明电极走线的使用寿命。

基本信息
专利标题 :
显示基板及其制备方法、显示面板、显示设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114530462A
申请号 :
CN202210152147.7
公开(公告)日 :
2022-05-24
申请日 :
2022-02-18
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
邹富伟魏悦崔伟王雄
申请人 :
京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请人地址 :
北京市朝阳区酒仙桥路10号
代理机构 :
北京市立方律师事务所
代理人 :
张筱宁
优先权 :
CN202210152147.7
主分类号 :
H01L27/12
IPC分类号 :
H01L27/12  H01L21/77  
法律状态
2022-06-10 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 27/12
申请日 : 20220218
2022-05-24 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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