阵列基板及其制备方法、显示面板

授权

摘要

本发明涉及一种阵列基板及其制备方法、显示面板。该阵列基板包括衬底、覆盖衬底的缓冲层。其中，缓冲层包括第一区域及环绕第一区域的第二区域，位于第二区域的缓冲层的氢离子浓度大于位于第一区域的缓冲层的氢离子浓度。该阵列基板，可以通过氢离子与驱动结构中的悬挂键的结合，降低位于第二区域的悬挂键对驱动结构的载流子迁移率产生的影响。由此使用该阵列基板制备显示面板时，可以提升位于缓冲层第二区域的显示子面板的亮度，使该阵列基板制成的不同OLED显示子面板的亮度均一性提高。

基本信息

专利标题：

阵列基板及其制备方法、显示面板

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN110993627A

申请号：

CN202010001050.7

公开（公告）日：

2020-04-10

申请日：

2020-01-02

授权号：

CN110993627B

授权日：

2022-05-17

发明人：

胥真奇杨依辉党晓强杨丰顾津席张志江

申请人：

昆山国显光电有限公司

申请人地址：

江苏省苏州市昆山市开发区龙腾路1号4幢

代理机构：

北京华进京联知识产权代理有限公司

代理人：

李红艳

优先权：

CN202010001050.7

主分类号：

H01L27/12

IPC分类号：

H01L27/12 H01L21/77 H01L27/32