阵列基板及其制备方法、显示面板
实质审查的生效
摘要

本申请公开了阵列基板及其制备方法、显示面板,其中,层叠且贴合设置的衬底基板与第一金属层,第一金属层远离衬底基板上贴合设置有第一层叠部和第二层叠部,第一层叠部包括层叠且贴合设置的第一绝缘层、第二金属层、第二绝缘层以及第一导电层,第一层叠部上设置有第一过孔,第二层叠部包括层叠且贴合设置的第三绝缘层以及第二导电层,第二层叠部上设置有第二过孔,第一过孔和第一导电层连接,第二过孔和第二导电层连接,第一导电层和第二导电层连接,以连通第一金属层和第二金属层;其中,第二层叠部延伸至第一金属层的边缘。通过上述结构,本实施例的阵列基板能够提高第二过孔与第一金属层的接触效果,进而提高第二过孔的导通性。

基本信息
专利标题 :
阵列基板及其制备方法、显示面板
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114415432A
申请号 :
CN202111554046.4
公开(公告)日 :
2022-04-29
申请日 :
2021-12-17
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
常红燕李振亚王光加韩丙黄世帅王晓洁袁海江
申请人 :
惠科股份有限公司
申请人地址 :
广东省深圳市宝安区石岩街道石龙社区工业二路1号惠科工业园厂房1栋一层至三层、五至七层,6栋七层
代理机构 :
深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
李莉
优先权 :
CN202111554046.4
主分类号 :
G02F1/1362
IPC分类号 :
G02F1/1362  G02F1/1333  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如转换、选通、调制或解调,上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的;用于上述操作的技术或工艺;变频;非线性光学;光学逻辑元件;光学模拟/数字转换器
G02F1/00
控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如,转换、选通或调制;非线性光学
G02F1/01
对强度、相位、偏振或颜色的控制
G02F1/13
基于液晶的,例如单位液晶显示单元
G02F1/133
构造上的设备;液晶单元的工作;电路装置
G02F1/136
结构上与一半导体层或基片相结合的液晶单元,例如形成集成电路部分的液晶单元
G02F1/1362
有源矩阵寻址单元
法律状态
2022-05-20 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02F 1/1362
申请日 : 20211217
2022-04-29 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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