阵列基板及其制备方法、显示面板
实质审查的生效
摘要
本发明提供一种阵列基板及其制备方法、显示面板，属于显示技术领域，其可至少部分解决现有的显示面板中的遮光结构的遮光性能差而导致漏光的问题。本发明的一种阵列基板，具有多个像素区以及位于任意相邻两像素区之间的遮光区，阵列基板包括：衬底；多个彩膜层，设置于衬底上并且至少部分位于像素区；多个第一电极层，设置于彩膜层远离衬底的一侧，并且位于像素区，第一电极层为透明电极层；遮光膜，设置于任意相邻两第一电极层之间，遮光膜为不透光膜层。
基本信息
专利标题 ：
阵列基板及其制备方法、显示面板
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114530456A
申请号 ：
CN202011231084.1
公开（公告）日 ：
2022-05-24
申请日 ：
2020-11-06
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
李梁梁伍蓉刘正
申请人 ：
福州京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
申请人地址 ：
福建省福州市福清市石竹街道西环北路36号
代理机构 ：
北京天昊联合知识产权代理有限公司
代理人 ：
柴亮
优先权 ：
CN202011231084.1
主分类号 ：
H01L27/12
IPC分类号 ：
H01L27/12 H01L21/77 H01L27/32 G02F1/1343 G02F1/1362
法律状态
2022-06-10 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 27/12
申请日 : 20201106
申请日 : 20201106
2022-05-24 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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