阵列基板及其制备方法、显示面板
实质审查的生效
摘要
本发明公开了一种阵列基板及其制备方法、显示面板，包括显示区和弯折区，显示区包括衬底、屏蔽层、阻隔层、有源层和第一源漏极金属层，第一源漏极金属层通过第一子接触孔与有源层电连接，第一源漏极金属层通过第一子接触孔和第二子接触孔与屏蔽层电连接；本发明以有源层和屏蔽层作为蚀刻阻挡层，接触孔与位于弯折区的第一开口和第二开口采用同一道黄光制程制备而成，相较于现有技术中的第一开口和第二开口分别通过一道黄光制程制备，省去了一道制备第二开口的黄光制程，有利于降低成本。
基本信息
专利标题 ：
阵列基板及其制备方法、显示面板
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114335010A
申请号 ：
CN202111577086.0
公开（公告）日 ：
2022-04-12
申请日 ：
2021-12-22
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
白丹赵瑜
申请人 ：
武汉华星光电半导体显示技术有限公司
申请人地址 ：
湖北省武汉市东湖新技术开发区高新大道666号光谷生物创新园C5栋305室
代理机构 ：
深圳紫藤知识产权代理有限公司
代理人 ：
孟霞
优先权 ：
CN202111577086.0
主分类号 ：
H01L27/12
IPC分类号 ：
H01L27/12 H01L27/32 H01L21/84
法律状态
2022-04-29 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 27/12
申请日 : 20211222
申请日 : 20211222
2022-04-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
