气体分析装置
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摘要
一种气体分析装置包括：光源，其被配置为向目标气体发射激光束；反射体，其反射激光束；光接收装置，其接收由反射体反射的激光束；容器，其容纳光源和光接收装置；对准机构，其包括第一插入构件，所述第一插入构件从容器的外部插入到容器的内部，以沿着与激光束的照射方向交叉的平面移动光源和光接收装置中的至少一个。
基本信息
专利标题 ：
气体分析装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN110346325A
申请号 ：
CN201910271120.8
公开（公告）日 ：
2019-10-18
申请日 ：
2019-04-04
授权号 ：
CN110346325B
授权日 ：
2022-05-03
发明人 ：
松尾純一宮阪俊樹川島拓也廣野守
申请人 ：
横河电机株式会社
申请人地址 ：
日本东京
代理机构 ：
上海专利商标事务所有限公司
代理人 ：
陆嘉
优先权 ：
CN201910271120.8
主分类号 ：
G01N21/39
IPC分类号 ：
G01N21/39
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段，即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/17
入射光根据所测试的材料性质而改变的系统
G01N21/25
颜色；光谱性质，即比较材料对两个或多个不同波长或波段的光的影响
G01N21/31
测试材料在特定元素或分子的特征波长下的相对效应，例如原子吸收光谱术
G01N21/39
利用可调谐的激光器
法律状态
2022-05-03 ：
授权
2019-11-12 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01N 21/39
申请日 : 20190404
申请日 : 20190404
2019-10-18 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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