面板缺陷拍照方法和面板缺陷拍照装置
授权
摘要
本申请涉及一种面板缺陷拍照方法和面板缺陷拍照装置，该面板缺陷拍照方法包括：在当前制程下对待测面板进行检测，得到至少一个当前缺陷的第一缺陷信息；获取前序制程中待测面板已被拍照的历史缺陷的第二缺陷信息；判断至少一个第一缺陷信息与第二缺陷信息是否相同，并获取判断结果；根据判断结果从当前缺陷中确定目标缺陷，并对目标缺陷进行拍照。通过这种方式，将当前制程中检测出的当前缺陷与前序制程中已被拍照的历史缺陷进行对比，以避免对前序制程中已被拍照的历史缺陷进行重复拍照，进而在拍照数量有限时能够拍取更多新出现的缺陷，从而降低当前缺陷的拍照遗漏率，提高产线良率。
基本信息
专利标题 ：
面板缺陷拍照方法和面板缺陷拍照装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN110672631A
申请号 ：
CN201910904382.3
公开（公告）日 ：
2020-01-10
申请日 ：
2019-09-24
授权号 ：
CN110672631B
授权日 ：
2022-06-10
发明人 ：
王珂
申请人 ：
深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市光明新区公明街道塘明大道9-2号
代理机构 ：
深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙)
代理人 ：
汪阮磊
优先权 ：
CN201910904382.3
主分类号 ：
G01N21/95
IPC分类号 ：
G01N21/95 G01N21/88
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段，即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/84
专用于特殊应用的系统
G01N21/88
测试瑕疵、缺陷或污点的存在
G01N21/95
特征在于待测物品的材料或形状
法律状态
2022-06-10 ：
授权
2020-02-11 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01N 21/95
申请日 : 20190924
申请日 : 20190924
2020-01-10 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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