他达拉非Ⅰ型晶体的制备方法
授权
摘要
本发明属于医药技术领域，具体涉及他达拉非Ⅰ型晶体的制备方法。本发明所要解决的技术问题在于提供一种溶剂可回收，污染小的他达拉非Ⅰ型晶体的制备方法。该方法为：a、结晶无水他达拉非V型晶体用水或C1‑C4醇中的至少一种为溶剂搅拌；b、加入无机碱搅拌得浆液；c、将浆液过滤后加水打浆，再次过滤，洗涤得他达拉非I型晶体湿品；d、干燥得他达拉非I型晶体。本发明方法溶剂用量少，易回收，生产成本低，具有良好的应用前景。
基本信息
专利标题 ：
他达拉非Ⅰ型晶体的制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN110615789A
申请号 ：
CN201911036881.1
公开（公告）日 ：
2019-12-27
申请日 ：
2019-10-29
授权号 ：
CN110615789B
授权日 ：
2022-04-12
发明人 ：
安好义安志远郑敏李坤尹长刚
申请人 ：
四川依科制药有限公司
申请人地址 ：
四川省德阳市广汉市中山大道南四段2号
代理机构 ：
成都虹桥专利事务所(普通合伙)
代理人 ：
张小丽
优先权 ：
CN201911036881.1
主分类号 ：
C07D471/14
IPC分类号 ：
C07D471/14
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C07
有机化学
C07D
杂环化合物
C07D471/00
在稠环系中含有氮原子作为仅有的杂环原子、其中至少1个环是含有1个氮原子的六元环的杂环化合物，C07D451/00至C07D463/00不包括的
C07D471/12
在稠环系中含3个杂环
C07D471/14
邻位稠合系
法律状态
2022-04-12 ：
授权
2020-01-21 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C07D 471/14
申请日 : 20191029
申请日 : 20191029
2019-12-27 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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