用于优化干涉仪的光学性能的方法及设备
授权
摘要
一种用干涉仪测量测试对象的性质的方法，包含：a)提供校准信息，校准信息将干涉仪的对焦设定相关到测试对象相对于干涉仪的参考表面的位置；b)确定测试对象相对于参考表面的位置；以及c)使用干涉仪来收集测试对象的干涉仪图像，以用于测量测试对象的性质。
基本信息
专利标题 ：
用于优化干涉仪的光学性能的方法及设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN110836633A
申请号 ：
CN201911058419.1
公开（公告）日 ：
2020-02-25
申请日 ：
2017-11-08
授权号 ：
CN110836633B
授权日 ：
2022-06-14
发明人 ：
L.L.德克
申请人 ：
齐戈股份有限公司
申请人地址 ：
美国康涅狄格州
代理机构 ：
北京市柳沈律师事务所
代理人 ：
李芳华
优先权 ：
CN201911058419.1
主分类号 ：
G01B9/02
IPC分类号 ：
G01B9/02
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01B
长度、厚度或类似线性尺寸的计量；角度的计量；面积的计量；不规则的表面或轮廓的计量
G01B9/00
组中所列的及以采用光学测量方法为其特征的仪器
G01B9/02
干涉仪
法律状态
2022-06-14 ：
授权
2020-03-20 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01B 9/02
申请日 : 20171108
申请日 : 20171108
2020-02-25 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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