一种高性能窄带滤光薄膜的制备方法
授权
摘要
本发明涉及一种高性能窄带滤光薄膜的制备方法，属于技术领域。本发明提供一种高性能窄带滤光薄膜的制备方法，将制备滤光薄膜的透过率曲线与相近的理论曲线进行对比分析，通过对滤光薄膜的间隔层沉积时间进行修正，实现高性能窄带滤光薄膜的制备。本发明对于不同工作波长不同带宽的窄带滤光薄膜的制备具有普适性。
基本信息
专利标题 ：
一种高性能窄带滤光薄膜的制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN110983253A
申请号 ：
CN201911146648.9
公开（公告）日 ：
2020-04-10
申请日 ：
2019-11-21
授权号 ：
CN110983253B
授权日 ：
2022-06-14
发明人 ：
姜玉刚刘华松陈丹王利栓何家欢
申请人 ：
天津津航技术物理研究所
申请人地址 ：
天津市东丽区空港经济区中环西路58号
代理机构 ：
中国兵器工业集团公司专利中心
代理人 ：
王雪芬
优先权 ：
CN201911146648.9
主分类号 ：
C23C14/10
IPC分类号 ：
C23C14/10 C23C14/08 C23C14/46 C23C14/54 G02B5/28
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/06
以镀层材料为特征的
C23C14/10
玻璃或二氧化硅
法律状态
2022-06-14 ：
授权
2020-05-05 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/10
申请日 : 20191121
申请日 : 20191121
2020-04-10 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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