转架及具有其的镀膜设备
授权
摘要
本公开涉及镀膜技术领域，提出了一种转架及具有其的镀膜设备。转架包括第一转盘、第二转盘、转动杆、第一驱动组件以及第二驱动组件，第一转盘与第二转盘相对设置，且同步可转动地设置；转动杆穿设在第一转盘与第二转盘上，且相对于第一转盘与第二转盘可转动地设置；第一驱动组件与第一转盘驱动连接，以驱动第一转盘、第二转盘以及转动杆绕第一轴线同步转动；第二驱动组件与转动杆驱动连接，以驱动转动杆绕第二轴线转动。通过转动杆的公转和自转，以及第一转盘和第二转盘的转动，可以适应不同产品在镀膜过程中对转动过程的要求，以此保证产品的镀膜效果。
基本信息
专利标题 ：
转架及具有其的镀膜设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN110760810A
申请号 ：
CN201911180983.0
公开（公告）日 ：
2020-02-07
申请日 ：
2019-11-27
授权号 ：
CN110760810B
授权日 ：
2022-04-08
发明人 ：
吴洽聂鹏黄志云阮利平
申请人 ：
中山凯旋真空科技股份有限公司
申请人地址 ：
广东省中山市横栏镇环镇北路27号
代理机构 ：
北京律智知识产权代理有限公司
代理人 ：
李建忠
优先权 ：
CN201911180983.0
主分类号 ：
C23C14/50
IPC分类号 ：
C23C14/50
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/50
基座
法律状态
2022-04-08 ：
授权
2020-03-03 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/50
申请日 : 20191127
申请日 : 20191127
2020-02-07 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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