一种超晶格忆阻器功能层材料、忆阻器单元及其制备方法
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摘要

本发明提供了一种超晶格忆阻器功能层材料、包含该超晶格忆阻器功能层的忆阻器单元及其制备方法,其中,该超晶格忆阻器功能层材料是至少由第一金属氧化物层和第二金属氧化物层交替堆垛在第一平面方向形成层叠结构。本发明利用两种二元金属氧化物氧离子的迁移势垒不同,使得忆阻器在一定条件下,阻态可进行稳定的缓变,实现了对氧空位导电细丝通断的调制效果,提高了忆阻器的稳定性和一致性。此外,忆阻器电导可以随外加电场连续变化,实现了电导连续可调的突触特性,提高了类脑神经形态计算突触线性度。对于存储融合计算和神经形态计算的硬件实现具有重要意义。

基本信息
专利标题 :
一种超晶格忆阻器功能层材料、忆阻器单元及其制备方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN111009609A
申请号 :
CN201911350103.X
公开(公告)日 :
2020-04-14
申请日 :
2019-12-24
授权号 :
CN111009609B
授权日 :
2022-06-07
发明人 :
王兴晟王成旭缪向水
申请人 :
华中科技大学
申请人地址 :
湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号
代理机构 :
武汉东喻专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
张英
优先权 :
CN201911350103.X
主分类号 :
H01L45/00
IPC分类号 :
H01L45/00  
法律状态
2022-06-07 :
授权
2020-05-08 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 45/00
申请日 : 20191224
2020-04-14 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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