波导镜
授权
摘要
一种镜子及其制造方法,所述方法包括:提供绝缘体上硅衬底,所述衬底包括:硅支撑层;在所述硅支撑层顶部的掩埋氧化物(BOX)层;在所述BOX层顶部的硅器件层;在所述硅器件层中形成通孔,所述通孔延伸到所述BOX层;从所述通孔处开始蚀刻掉所述BOX层的一部分,并沿第一方向背离所述通孔横向延伸,以在所述硅器件层和所述硅支撑层之间形成沟道;通过所述沟道将各向异性蚀刻施加到与所述沟道相邻的所述硅器件层和所述硅支撑层的区域;所述各向异性蚀刻跟随所述硅器件层和所述硅支撑层的取向平面,以在所述硅器件层的悬垂部分下方形成空腔;所述悬垂部分限定平坦的下侧表面,用于将光竖直地耦合进出所述硅器件层;以及将金属涂层施加在所述下侧表面上。
基本信息
专利标题 :
波导镜
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201920479305.3
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-03-29
授权号 :
CN209803375U
授权日 :
2019-12-17
发明人 :
H.尼卡南J.P.德拉克E.科D.莱罗塞S.L.马克拉A.S.纳格拉
申请人 :
洛克利光子有限公司
申请人地址 :
英国伦敦
代理机构 :
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 :
李湘
优先权 :
CN201920479305.3
主分类号 :
G02B6/10
IPC分类号 :
G02B6/10 G02B6/125 G02B6/136
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B6/00
光导;包含光导和其他光学元件的装置的结构零部件
G02B6/10
光波导式的
法律状态
2019-12-17 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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