近场反射型显微技术处理方法及显微镜
专利申请的视为撤回
摘要
本发明为光探针的近场扫描反射型显微技术的处理方法，特别是采用注以高相干电磁波如激光的波导，其特征为波导的端头设在离被测表面近处，使得波导的主传播模式和被测表面的反射的并由波导传回的波的电场传播模式之间的耦合系数随端头接近被测表面而呈现一种大致的指数增长。由于其纯光学装置和毫微米分辨率的特点，本发明的应用场合比一般扫描显微技术的更广泛。特别是用于集成电路的微晶测绘的各式仪器中。
基本信息
专利标题 ：
近场反射型显微技术处理方法及显微镜
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1050266A
申请号 ：
CN90107312.1
公开（公告）日 ：
1991-03-27
申请日 ：
1990-08-28
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
得·佛奈尔·佛利得利克高道奈特·让-皮勒塞勒·奈特哈利
申请人 ：
斯皮拉尔研究发展公司
申请人地址 ：
法国第戎
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利代理部
代理人 ：
杜日新
优先权 ：
CN90107312.1
主分类号 ：
G02B21/00
IPC分类号 ：
G02B21/00 G02B26/10 G02B6/10
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B21/00
显微镜
法律状态
1994-10-19 ：
专利申请的视为撤回
1992-12-02 ：
实质审查请求已生效的专利申请
1991-03-27 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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