一种扩散均匀的扩散烧结炉
授权
摘要
本实用新型公开了一种扩散均匀的扩散烧结炉，属于太阳能电池生产设备技术领域，目的在于提供一种扩散均匀的扩散烧结炉，解决现有扩散烧结炉气源扩散不均匀的问题。其包括垂直设置的扩散炉管，扩散炉管外侧设置有隔热层，扩散炉管周围位于扩散炉管与隔热层之间设置有若干加热管，扩散炉管上端安装有扩散炉门，扩散炉管下端中部开设有排气口，扩散炉管下端位于排气口旁还设置有进气口，扩散炉管内位于扩散炉管中部设置有石英舟，石英舟上设置有若干硅片。本实用新型适用于扩散烧结炉。
基本信息
专利标题 ：
一种扩散均匀的扩散烧结炉
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920571499.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-04-25
授权号 ：
CN209785887U
授权日 ：
2019-12-13
发明人 ：
周公庆
申请人 ：
通威太阳能（成都）有限公司
申请人地址 ：
四川省成都市双流区西南航空港经济开发区工业集中发展区六期内
代理机构 ：
成都弘毅天承知识产权代理有限公司
代理人 ：
蒋秀清
优先权 ：
CN201920571499.X
主分类号 ：
H01L21/67
IPC分类号 ：
H01L21/67 H01L21/228 H01L31/18 F27B17/00 F27D5/00 F27D7/00
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
法律状态
2019-12-13 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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