一种涂层缺陷X射线无损检测装置
授权
摘要

本实用新型提供一种涂层缺陷X射线无损检测装置,属于无损检测技术领域。该装置包括主机、支架和控制显示部分,主机通过支架固定,控制显示部分控制主机运行和支架移动,并对探测信号进行显示。主机包括激光定位器、X射线管和X射线探测器,主机安装在支架上,X射线管和X射线探测器依据X射线衍射原理布置,控制显示部分控制主机运行和支架移动,并对探测信号进行显示。该装置依据X射线衍射和吸收原理,可检测涂层的缺陷,例如磕碰划伤、气泡、疏松、腐蚀等缺陷。本装置结构简单,重量轻方便携带,操作简便,检测时间短,探测器与工件非接触,不损伤破坏涂层。

基本信息
专利标题 :
一种涂层缺陷X射线无损检测装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201920665905.9
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-05-10
授权号 :
CN210037669U
授权日 :
2020-02-07
发明人 :
张津连勇焦进超徐伟生吕克茂张学增
申请人 :
北京科技大学;邯郸爱斯特应力技术有限公司
申请人地址 :
北京市海淀区学院路30号
代理机构 :
北京市广友专利事务所有限责任公司
代理人 :
张仲波
优先权 :
CN201920665905.9
主分类号 :
G01N23/2055
IPC分类号 :
G01N23/2055  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N23/00
利用波或粒子辐射来测试或分析材料,例如未包括在G01N3/00-G01N17/00、G01N 21/00 或G01N 22/00中的X射线或中子
G01N23/20
利用材料辐射的衍射,例如,用于测试晶体结构;利用材料辐射的散射,例如测试非晶材料;利用材料辐射的反射
G01N23/2055
衍射图分析
法律状态
2020-02-07 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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