使用X射线检测设备缺陷的方法及系统
公开
摘要
在一实施例中，自动高速X射线检测系统在可以基本上正交于被检测样本平面的第一方向上生成被检测样本的第一X射线图像。第一X射线图像可以是高分辨率灰度图像。系统可以基于第一X射线图像来识别所检测样本的一个或多个感兴趣元件。第一X射线图像可以包括干扰第一X射线图像中的一个或多个感兴趣元件的干扰元件。系统可以基于第一X射线图像中灰度值的变化来确定与各个感兴趣元件相关联的一个或多个第一特征。系统可以基于与感兴趣元件相关联的一个或多个第一特征来确定一个或多个缺陷是否与相应的感兴趣元件相关联。
基本信息
专利标题 ：
使用X射线检测设备缺陷的方法及系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114424053A
申请号 ：
CN202080063092.1
公开（公告）日 ：
2022-04-29
申请日 ：
2020-07-10
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
大卫·刘易斯·阿德勒斯科特·约瑟夫·朱勒弗雷迪·埃里希·巴比安
申请人 ：
布鲁克纳米公司
申请人地址 ：
美国加利福尼亚州
代理机构 ：
北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
宋融冰
优先权 ：
CN202080063092.1
主分类号 ：
G01N23/04
IPC分类号 ：
G01N23/04 G01N23/083 G01N23/18 G06K9/62 G06N20/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N23/00
利用波或粒子辐射来测试或分析材料，例如未包括在G01N3/00-G01N17/00、G01N 21/00 或G01N 22/00中的X射线或中子
G01N23/02
通过使辐射透过材料
G01N23/04
并形成材料的图片
法律状态
2022-04-29 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
