一种平面靶材的校平设备
授权
摘要
本实用新型公开了一种平面靶材的校平设备，校平设备设置有纵向移动机构和拱度检测装置，纵向移动机构，用作带动抵压杆沿平面靶材的长度方向往复移动，纵向移动机构包括有移动底座和底座驱动机构，移动底座移动安装于加热平台的一侧，移动底座的移动轨迹的纵向长度不小于平面靶材的长度，底座驱动机构设置为手动驱动结构或电机驱动结构，底座驱动机构驱动连接移动底座，施压机构固接于移动底座，抵压杆始终竖直对齐平面靶材；拱度检测装置，用作测量平面靶材的拱度，拱度检测装置固定安装于移动底座或施压机构。与现有技术相比，该校平装置能够对平面靶材进行高精度的热压校平，不会损坏靶材，校平时间短，校平效果好。
基本信息
专利标题 ：
一种平面靶材的校平设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920685496.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-05-14
授权号 ：
CN210085566U
授权日 ：
2020-02-18
发明人 ：
文锋
申请人 ：
东莞市欧莱溅射靶材有限公司
申请人地址 ：
广东省东莞市厚街镇汀山村汀山路121号
代理机构 ：
北京天盾知识产权代理有限公司
代理人 ：
林晓宏
优先权 ：
CN201920685496.9
主分类号 ：
C23C14/34
IPC分类号 ：
C23C14/34
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
法律状态
2020-02-18 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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