一种高纯镓的脱氧及杂质去除装置
专利申请权、专利权的转移
摘要

本实用新型涉及一种高纯镓的脱氧及杂质去除装置,包括单侧开口的石英管、用于盛放待提纯镓的石英舟、真空法兰和两端均开口的两座可移动式高温加热炉,石英舟位于石英管内,真空法兰与石英管的开口固定连接,两座可移动式高温加热炉分别套于石英管的外部两端。本实用新型的高纯镓的脱氧及杂质去除装置,炉膛高温下使反应管内高纯镓的氧化物及部分挥发性杂质由固态转化为气态的形式挥发除去,从而避免高纯镓中的氧和其它杂质在砷化镓多晶合成时进入晶体内部,有效解决砷化镓单晶中氧及杂质的掺入,提高晶体电学性能。

基本信息
专利标题 :
一种高纯镓的脱氧及杂质去除装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201920744359.8
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-05-22
授权号 :
CN210736954U
授权日 :
2020-06-12
发明人 :
周晓霞于洪国焦雪梅董娓袁泽海曲骏赵静敏
申请人 :
有研光电新材料有限责任公司
申请人地址 :
河北省廊坊市廊坊开发区百合道4号
代理机构 :
北京辰权知识产权代理有限公司
代理人 :
佟林松
优先权 :
CN201920744359.8
主分类号 :
C30B35/00
IPC分类号 :
C30B35/00  C30B29/42  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C30
晶体生长
C30B
单晶生长;共晶材料的定向凝固或共析材料的定向分层;材料的区熔精炼;具有一定结构的均匀多晶材料的制备;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之后处理;其所用的装置
C30B35/00
未包括在其他分类位置中的专门适用于单晶或具有一定结构的均匀多晶材料的生长、制备或后处理的装置
法律状态
2022-04-15 :
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移IPC(主分类) : C30B 35/00
登记生效日 : 20220406
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 有研光电新材料有限责任公司
变更后权利人 : 有研国晶辉新材料有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 065001 河北省廊坊市廊坊开发区百合道4号
变更后权利人 : 065201 河北省廊坊市三河市燕郊兴都村南有研科技集团有限公司二部
2020-06-12 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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