用于共聚焦显微镜探测针孔的纳米级微位移调节装置
专利权的终止
摘要

本实用新型公开一种用于共聚焦显微镜探测针孔的纳米级微位移调节装置,由设置在下基座上的驱动器支撑上基座并对其进行快速、大行程的一级调节,由安装在上基座上的三维精密微位移平台对针孔盘进行三维方向的精密二级调节,通过上述双级调节可有效消除传统手动调节方式所带来的不确定性和不稳定性,以及现有光路调整机构可调行程小和应用范围受限的缺陷,并且上述一级大行程快速调节部分和二级精密微调部分可单独使用,以应用于相应需求场合。本实用新型通过控制器控制其进行纳米微位移调节,可使装置在工作过程中运行稳定、重复性好,从而使调节精度得到保障,实用性强。

基本信息
专利标题 :
用于共聚焦显微镜探测针孔的纳米级微位移调节装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201920818267.X
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-05-31
授权号 :
CN209962001U
授权日 :
2020-01-17
发明人 :
李琪高思田李伟施玉书黄鹭黎雄威李适张树
申请人 :
中国计量科学研究院
申请人地址 :
北京市朝阳区北三环东路18号
代理机构 :
北京高沃律师事务所
代理人 :
刘奇
优先权 :
CN201920818267.X
主分类号 :
G02B21/00
IPC分类号 :
G02B21/00  G02B21/26  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B21/00
显微镜
法律状态
2022-05-17 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : G02B 21/00
申请日 : 20190531
授权公告日 : 20200117
终止日期 : 20210531
2020-01-17 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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