一种管帽镀膜治具
授权
摘要
本实用新型涉及一种管帽镀膜治具，包括盖板、底板、定位装置、固定装置和设置在所述盖板上的多个裙边立柱；所述盖板压住安装在所述底板上的管帽；所述裙边立柱嵌入所述管帽内并遮住所述管帽的开口处；所述裙边立柱的下表面开设有通孔；所述定位装置穿过所述盖板和所述底板并将其定位在镀膜设备上；所述固定装置紧固连接所述盖板和所述底板。解决了现有方案造成的管帽的其他区域会被镀膜污染、镀膜后需要进行去除开口功能区膜层的工艺、镀膜时膜层会积聚在镀膜孔的四周和镀膜的位置会出现偏差等问题。
基本信息
专利标题 ：
一种管帽镀膜治具
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920886252.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-06-13
授权号 ：
CN210215519U
授权日 ：
2020-03-31
发明人 ：
黄光华曾杰方华庄雷方涛
申请人 ：
无锡吉微精密电子有限公司
申请人地址 ：
江苏省无锡市新吴区梅村锡泰路215号
代理机构 ：
无锡睿升知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
张悦
优先权 ：
CN201920886252.7
主分类号 ：
C23C14/00
IPC分类号 ：
C23C14/00 C23C16/00 G01D11/00
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
法律状态
2020-03-31 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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