一种生长炉温度辅助控制机构
授权
摘要

本实用新型公开了一种生长炉温度辅助控制机构,包括炉体、供电电源和加热器,供电电源通过电源分配器将一部分电源分配给工控主机供电,另一部分电源分配给炉体供电,炉体和电源分配器之间的电路上还串联有一个变频器,工控主机电连接变频器,变频器上自带有手动调节开关,炉体的内部底端安装有加热器,加热器上安装有第一温度传感器,炉体的内壁上安装有第二温度传感器;本实用新型的生长炉温度辅助控制机构通过第一温度传感器和第二温度传感器检测温度,同时将温度信号传送给工控主机,通过其判断增减,从而控制或者手动控制变频器调节供电电流的大小,改变给炉体的供电大小,从而改变加热器和加热板的加热温度,达到调节炉体温度的目的,调节准确。

基本信息
专利标题 :
一种生长炉温度辅助控制机构
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201920971893.2
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-06-26
授权号 :
CN210117453U
授权日 :
2020-02-28
发明人 :
周元辉刘春艳胡春霞刘洪亮刘洪涛范子龙高雅蕾姜树炎
申请人 :
苏州优晶光电科技有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市张家港市凤凰镇开发区(韩国工业园区友谊路)
代理机构 :
北京兴智翔达知识产权代理有限公司
代理人 :
蒋常雪
优先权 :
CN201920971893.2
主分类号 :
C30B15/20
IPC分类号 :
C30B15/20  C30B15/14  C30B28/10  C30B29/06  
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C30
晶体生长
C30B
单晶生长;共晶材料的定向凝固或共析材料的定向分层;材料的区熔精炼;具有一定结构的均匀多晶材料的制备;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之后处理;其所用的装置
C30B15/00
熔融液提拉法的单晶生长,例如Czochralski法
C30B15/20
控制或调节
法律状态
2020-02-28 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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