应用于液氮冷阱的放溢装置
授权
摘要
本实用新型提供了一种应用于液氮冷阱的放溢装置，所述放溢装置具有双层结构，包括杯状主体和防冻保护层，所述防冻保护层设置在所述杯状主体的外表面，所述杯状主体的内直径大于液氮冷阱的外直径，所述杯状主体的内腔底部与所述液氮冷阱的底部连接。由于液氮冷阱容置在所述放溢装置中，这样工作人员在添加液氮时，一旦有液氮从液氮冷阱中溢出，可以被所述放溢装置容纳，从而避免溢出的液氮对设备或者人员造成危害。
基本信息
专利标题 ：
应用于液氮冷阱的放溢装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920990537.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-06-26
授权号 ：
CN210751366U
授权日 ：
2020-06-16
发明人 ：
高金德陈强
申请人 ：
上海华力微电子有限公司
申请人地址 ：
上海市浦东新区良腾路6号
代理机构 ：
上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
屈蘅
优先权 ：
CN201920990537.5
主分类号 ：
B01D8/00
IPC分类号 ：
B01D8/00
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B01
一般的物理或化学的方法或装置
B01D8/00
冷凝阱；冷隔板
法律状态
2020-06-16 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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