一种双面循环抛磨装置
授权
摘要
本实用新型涉及一种双面循环抛磨装置，包括：抛磨机构，包括两组抛磨砂带及分别带动抛磨砂带的转动轮组，两组抛磨砂带中部形成抛磨面；推料机构，包括入料滑轨、推杆、入料滑块及回料推块，推杆推动入料滑块向前移动，使入料滑块在入料滑轨上部滑动，入料滑块上部放置待抛磨工件，入料滑块向前移动过程与回料推块相贴，夹紧工件，将工件推入抛磨面；所述的回料推块尾端设置有复位弹簧，使回料推块入料及回料过程中均与入料滑块相贴，夹紧工件。本实用新型所述的一种双面循环抛磨装置，能够来回慢速输料，进行两次抛磨，对纵向两侧同时进行抛磨，提高加工效率及品质；自动上料、卸料，自动化程度高。
基本信息
专利标题 ：
一种双面循环抛磨装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920992283.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-06-27
授权号 ：
CN210360744U
授权日 ：
2020-04-21
发明人 ：
陈英哲吴传荣郭华彬蔡镇生刘再亮
申请人 ：
广东潮艺金属实业有限公司
申请人地址 ：
广东省潮州市中山(潮州)产业转移工业园径南分园中山大道JN02-22-3地块(厂房)
代理机构 ：
广东世纪专利事务所有限公司
代理人 ：
钟育彬
优先权 ：
CN201920992283.0
主分类号 ：
B24B21/00
IPC分类号 ：
B24B21/00 B24B21/06 B24B41/00 B24B41/06
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B24
磨削；抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给
B24B21/00
使用磨削或抛光带的机床或装置；以及附件
法律状态
2020-04-21 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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