一种打印平台

授权

摘要

本实用新型公开了一种打印平台，包括负压腔体和平台，所述平台设置于所述负压腔体的上方，且平台设有多个通孔，所述通孔与负压腔体联通，所述平台表面设有多个凹槽，所述通孔设置于凹槽中。减小打印介质受吸风口的影响，避免打印介质产生明显的吸附痕迹，提升吸附系统下打印机的打印效果；通过凹槽的设计为经过吸风通孔的打印介质提供更大的受力面积，减小打印介质在吸附过程中凹陷的深度，避免打印介质局部发生损坏；所述凹槽与凹槽之间能够产生相互的拉扯作用，使打印介质紧贴平台表面，并进一步减小打印介质在凹槽上的下陷深度，使打印介质趋向于完全平整；提高打印过程中打印介质的平整度，进而提高了打印精度，提升了打印机的打印效果。

基本信息

专利标题：

一种打印平台

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201921028276.5

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-07-02

授权号：

CN210911718U

授权日：

2020-07-03

发明人：

张波高梁伟

申请人：

广州晶慧实业有限公司

申请人地址：

广东省广州市增城区新塘镇久裕开发区裕华路10号

代理机构：

广州润禾知识产权代理事务所(普通合伙)

代理人：

郑永泉

优先权：

CN201921028276.5

主分类号：

B41J11/00

IPC分类号：

B41J11/00