一种改善滤波器谐波性能的耦合结构及滤波器
授权
摘要
本实用新型涉及滤波器技术领域，具体为一种改善滤波器谐波性能的耦合结构及滤波器，该耦合窗口所述耦合窗口设置在介质体的边沿。所述耦合窗口为条形、L型或匚型。耦合窗口沿介质体的中轴线对称分布。所述耦合窗口为主路耦合的耦合窗口或交叉耦合的耦合窗口。本实用新型提供的一种改善滤波器谐波性能的耦合结构及滤波器，能够让谐波远离滤波器通带，减少滤波器的损耗和制造工艺复杂程度，降低成本。
基本信息
专利标题 ：
一种改善滤波器谐波性能的耦合结构及滤波器
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921066800.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-07-09
授权号 ：
CN210111006U
授权日 ：
2020-02-21
发明人 ：
何进军蔡文新陈鹏韦俊杰
申请人 ：
重庆思睿创瓷电科技有限公司
申请人地址 ：
重庆市巴南区界石镇石桂大道18号10幢3-2
代理机构 ：
重庆强大凯创专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
黄书凯
优先权 ：
CN201921066800.8
主分类号 ：
H01P1/20
IPC分类号 ：
H01P1/20 H01P5/00
法律状态
2020-02-21 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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