一种陶瓷真空镀铜舱室内置坩埚
授权
摘要
本实用新型公开了一种陶瓷真空镀铜舱室内置坩埚，包括底座，及固定于底座上的坩埚支座；所述坩埚支座上固定有坩埚加热套；所述坩埚加热套内侧安装有坩埚；所述坩埚支座顶面固定有工字形的外套筒；所述外套筒设置于坩埚加热套外部；所述坩埚加热套顶部设置有扩径喉口；所述扩径喉口设置于外套筒内侧；所述外套筒顶部固定有加热端盖；所述加热端盖顶部设置有镀膜口；所述扩径喉口底部内径与坩埚顶部内径一致；本实用新型的陶瓷真空镀铜舱室内置坩埚，采用坩埚加热及加热端盖加热，能够调节附着温度，同时通过扩径喉口进行缓存；提高铜气排出稳定性。
基本信息
专利标题 ：
一种陶瓷真空镀铜舱室内置坩埚
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921115254.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-07-17
授权号 ：
CN210458344U
授权日 ：
2020-05-05
发明人 ：
乔利杰宋述兵杨会生庞晓露王瑞俊郑宝林
申请人 ：
山东司莱美克新材料科技有限公司
申请人地址 ：
山东省淄博市桓台县唐山镇工业路188号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201921115254.2
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24 C23C14/18
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2020-05-05 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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