一种陶瓷真空镀铜舱室内置坩埚
授权
摘要

本实用新型公开了一种陶瓷真空镀铜舱室内置坩埚,包括底座,及固定于底座上的坩埚支座;所述坩埚支座上固定有坩埚加热套;所述坩埚加热套内侧安装有坩埚;所述坩埚支座顶面固定有工字形的外套筒;所述外套筒设置于坩埚加热套外部;所述坩埚加热套顶部设置有扩径喉口;所述扩径喉口设置于外套筒内侧;所述外套筒顶部固定有加热端盖;所述加热端盖顶部设置有镀膜口;所述扩径喉口底部内径与坩埚顶部内径一致;本实用新型的陶瓷真空镀铜舱室内置坩埚,采用坩埚加热及加热端盖加热,能够调节附着温度,同时通过扩径喉口进行缓存;提高铜气排出稳定性。

基本信息
专利标题 :
一种陶瓷真空镀铜舱室内置坩埚
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921115254.2
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-07-17
授权号 :
CN210458344U
授权日 :
2020-05-05
发明人 :
乔利杰宋述兵杨会生庞晓露王瑞俊郑宝林
申请人 :
山东司莱美克新材料科技有限公司
申请人地址 :
山东省淄博市桓台县唐山镇工业路188号
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN201921115254.2
主分类号 :
C23C14/24
IPC分类号 :
C23C14/24  C23C14/18  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2020-05-05 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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