一种对准效果好的防焊曝光偏移的装置
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
摘要

本实用新型涉及防焊技术领域,且公开了一种对准效果好的防焊曝光偏移的装置,包括安装基板,所述安装基板的顶部固定安装有安装支板,两个所述安装支板的相对面均固定安装有固定块,两个所述固定块的相对面均固定安装有数量为两个的固定支架,顶部所述固定支架的内部固定安装有螺纹圈,所述螺纹圈的内表面活动连接有螺丝杆,顶部所述固定支架的底部固定安装有固定圈。该对准效果好的防焊曝光偏移的装置,当使用者杂使用该装置时,将测量物放置在两个固定支架之间,然后转动螺丝杆顶部的旋钮并使旋钮带动螺丝杆在螺纹圈的作用下向下移动,从而完成了对曝光处的定位,从而使该装置方便对准曝光部位,方便了使用者使用。

基本信息
专利标题 :
一种对准效果好的防焊曝光偏移的装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921189695.7
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-07-26
授权号 :
CN211792306U
授权日 :
2020-10-27
发明人 :
陈伟淇
申请人 :
重庆伟鼎电子科技有限公司
申请人地址 :
重庆市铜梁县铜梁工业园区产业大道(铜合路交界处)
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN201921189695.7
主分类号 :
H05K3/28
IPC分类号 :
H05K3/28  
法律状态
2021-09-17 :
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
IPC(主分类) : H05K 3/28
变更事项 : 专利权人
变更前 : 重庆伟鼎电子科技有限公司
变更后 : 重庆科迈电子科技有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 402560 重庆市铜梁县(已撤销)铜梁工业园区产业大道(铜合路交界处)
变更后 : 402560 重庆市铜梁区铜梁工业园区产业大道1号
2020-10-27 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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